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로크웰 오토메이션, 엔비디아 네모트론 활용해 엣지 기반 생성형 AI로 산업 인텔리전스 발전 가속화

로크웰 오토메이션이 엔비디아와의 협력을 통해 Nemotron Nano SLM을 FactoryTalk® Design Studio™에 통합하여 산업 엣지에 최적화된 생성형 AI를 구현하는 획기적인 발전을 발표했다. 이 목적별 모델은 기존 데이터 센터 대비 적은 공간과 전력으로 엣지 및 에어 갭 환경에서 작동하며, 향상된 추론과 응답성을 제공한다.

산업팀을 위한 목적별 AI 모델, 엣지, 오프라인 및 모든 작업 현장에서 즉각적인 통찰력 및 제어 제공

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rockwell automation

산업 자동화 및 디지털 전환 분야의 선도 기업인 로크웰 오토메이션(Rockwell Automation)은 생성형 AI를 산업 엣지(Edge) 영역에 직접 구현하는 획기적인 발전을 발표했다. 로크웰은 자사의 FactoryTalk® Design Studio™ 및 기타 로크웰 제품 워크플로우에 최적화된 목적별 소형 언어 모델(SLM)인 엔비디아 네모트론 나노(NVIDIA Nemotron Nano)의 통합을 도입하며, 산업팀을 위한 실시간 인텔리전스 분야에서 주요 단계를 밟았다.

산업 환경에 최적화된 엣지 기반 생성형 AI 구현

로크웰 오토메이션은 엔비디아(NVIDIA)와의 협력을 통해 오픈소스 Nemotron-Nano-9B-v2 모델과 NVIDIA NeMo를 활용하여 산업 환경에 맞게 특별히 설계된 엣지 기반 생성형 AI 기능을 제공하고 있다. Nemotron Nano의 증류(distillation) 기술은 기존 데이터 센터보다 적은 공간과 전력으로 엣지 환경에서 실행될 수 있는 SLM의 기반을 제공한다. 로크웰은 이 모델을 FactoryTalk Design Studio Copilot에서 사용되는 데이터로 미세 조정(fine-tuning)함으로써 산업 자동화 전문가들에게 새로운 잠재력을 제시하는 솔루션을 만들고 있다.

이 모델은 설계, 개발, 생산 및 유지보수 워크플로우 전반에 걸쳐 사용될 수 있도록 구축되었으며, HMI 패널, 어플라이언스, 데스크톱 IDE, 서버 또는 프라이빗 클라우드 환경에서 원활하게 작동한다. 특히 엣지 및 에어 갭(air-gapped) 배포를 모두 지원하여 다른 SLM에 비해 향상된 추론(reasoning), 예측 가능성 및 응답성을 제공한다.

실시간 응답성 및 데이터 보안 확보

초기 평가 결과는 이 모델이 새로운 추론, 병렬 처리 및 주요 성능 혁신을 통해 SLM 분야에서 두각을 나타내고 있음을 보여준다. 이러한 결과는 즉각적인 응답성, 데이터 보안 및 오프라인 작동이 필수적인 산업 엣지 시나리오에 모델이 강력하게 적합함을 강조한다.

로크웰 오토메이션 FactoryTalk Design Studio 사업 관리자인 토니 카라라(Tony Carrara)는 “산업 자동화는 엣지 및 보안 환경에서 안정적으로 작동하는 AI를 요구한다”며, 엔비디아 네모트론 모델을 미세 조정하여 고객의 워크플로우 가속화를 지원하는 솔루션을 만들고 있다고 언급했다.

엔비디아의 생성형 AI 소프트웨어 수석 디렉터인 조이 콘웨이(Joey Conway)는 “NVIDIA Nemotron Nano와 같은 소형 언어 모델은 결정이 이루어지는 현장, 즉 공장 현장에서부터 전력망에 이르기까지 실시간 인텔리전스를 제공한다”며, 로크웰 FactoryTalk Design Studio를 사용하는 기업들이 제한된 공간과 전력 환경에서 AI를 배포할 수 있도록 지원하여 AI를 데이터 센터에서 실제 운영의 중심으로 확장하고 있다고 설명했다.

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