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표준연, 반도체 공정진단 워크숍 개최

한국표준과학연구원(원장 정광화)이 6월 26일(화) 표준연 기술지원동에서 제 1회 반도체공정진단 워크숍을 개최한다. 이번 행사는 차세대 반도체 기술의 핵심이 되는 실시간 공정 모니터링 분석 진단기술 현황 및 기술교류를 위해 마련한 것으로, 관련 산학연 전문가들의 모임을 정례화한 것은 이번이 처음이다. <BR><BR>이번 워크숍에서는 ▲반도체공정진단 기술 현황 ▲화학원료물질(Precursor) 진단 ▲CVD/ALD 공정 및 플라즈마 진단 ▲오염입자 진단 및 관련 소프트웨어 개발 현황 등에 대해 집중 논의한다.<BR><BR>현재 우리나라 반도체 공정기술은 세계 최고 수준의 경쟁력을 갖고 있다. 반면 반도체 공정을 실시간으로 모니터링하고 분석하는 진단기술은 매우 취약한 실정이다. <BR><BR>미래 반도체 산업에서 경쟁력을 확보하기 위해서는 반도체 제조에 대한 실시간 진단 및 제어기술개발을 통해 생산시간을 단축하고, 수율향상을 이루어내는 것이 무엇보다 중요하다. <BR><BR>이에 세계 각국은 반도체 산업분야 선점을 위해 실시간 공정진단 기술 확보에 노력하고 있다. 하지만 이 분야의 기술개발은 아직 초기 단계인 만큼 연구역량을 얼마나 집중하느냐에 따라 관련 분야 산업의 미래 경쟁력이 결정될 것으로 예상된다. <BR><BR>이번 행사의 책임자 신용현 박사는 “그동안 국내 반도체 공정진단기술 관련 산학연 전문가들이 함께 모여 토론할 수 있는 자리가 없었다”며 “이 행사를 지속적으로 마련해 국내 반도체 기술 향상 및 장비 국산화를 이루는데 노력할 것이다”고 말했다.
아이씨엔 김철민 기자

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